光罩和Reticles相关知识

现代光刻依靠的一种类似于放大照片底片的投影印刷。图2.6 是简化的曝光过程。透镜系统校准一个强UV光源,称为光罩的金属盘子会挡住光线。UV光穿过光罩中透明的部分和另外的透镜在wafer上形成图像。图2.6中的仪器叫做aligner,因为她必须保证mask的图像和已存在的wafer上的图案精确对准。 740)this.width=740" border=undefined> 图2.6 简化的用aligner光罩曝光。 作为光罩底层的透明版图必须在尺寸上很稳定,否则它投影的图案和先前其他MASK投影的图案就不会对齐了。这些板子通常是含有fused silica(通常被误认为是石英)。在pla