电子测量中的应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统

应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision:trade_mark: G4系统,它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和增强的多视角SEM成像系统(MPSI),他们具有卓越的2纳米物理精度,能提供无与伦比的成像质量,其每秒一个缺陷的检测速度也设定了新的基准。 应用材料公司工艺诊断和控制事业部SEM部门总经理Ronen Benzion表示:“45纳米存储器和逻辑芯片具有深高宽比和高密集度,因此高可靠性和高生产力的缺陷再检测及分类对SEM