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电源技术中的TI双通道高速数字隔离器可提高工业应用系统性能

上传者: 2020-12-03 01:12:45上传 PDF文件 56.84KB 热度 4次
日前,德州仪器 (TI) 宣布推出采用创新电容隔离技术的最新系列双通道数字隔离器,与同类竞争器件相比,该系列产品不仅支持更高的数据传输速度与电磁抗干扰能力,而且还延长了电池使用寿命。ISO7220 与 ISO7221 提高了系统性能,降低了系统成本,可满足各种高电压、高噪声应用的需求,其中包括工厂自动化、过程控制、计算机外设以及数据采集系统。 TI 电容技术的电磁抗干扰能力比现有电感器器件提高了 6 倍,对于经常存在于工业环境且会损坏信号完整性的外部磁场,该技术具备卓越的抗干扰能力。此外,上述器件还能避免因快速电压瞬变(高达 25kV/us)造成的数据损坏。 电容技术还支持高达 4
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