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元器件应用中的金属膜电阻

上传者: 2020-11-17 23:10:57上传 PDF文件 55.47KB 热度 19次
金属膜电阻的制作是在圆形基棒上沉积镍铬合金,可以获得优异的性能。通常的容差为±1%,也可以得到±0.1%、±0.2z5%、±0.5 %的容差。温度系数可以低至±15ppm/°C。经循环和老化后,变化不会超过0.25%。典型结构如图所示。 图 膜电阻的结构 金属膜电阻有许多值得期望的特性。除了低温度系数和良好的长期稳定性外,它们有最低的噪声。寄生效应很小,在10MHz以下没有明显效果。金属膜电阻在设计中是很稳定的,可以很妤地抗环境压力的千扰,有很高的可靠性。虽然有0.1%的容差,但容差为1%的元件由于价格便宜而应用最广泛。 来源:ks99
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