显示/光电技术中的有效折射率法进行脊形光波导结构

SOl基片的构成如图1所示,顶层硅的厚度约为几微米,做为光波导的芯层材料;掩埋氧化层的厚度一般为0.5 gm,作为光波导的下包层,防止光场从衬底泄漏掉,所以只要氧化层的厚度大于光模的消逝场的尺寸,光就可以被有效的限制。表面一般也要淀积一层氧化层,作为上包层。 由于硅与二氧化硅之间大的相对折射率差(约42%),所以一般将SOl做成脊形光波导,下面我们就对SOl的脊形光波导利用有效折射率法进行较详细的分析。 有效折射率法的基本概念我们已经叙述过了,下面讲—下如何用有效折射率法来分析脊形光波导的传播常数。如图2所示。 图1 SOl光波导截面图 图2 有效折射率法进