IC Mask Design Essential Layout Techniques 上传者：sinat_80641470 2019-01-02 08:35:15上传 PDF文件 11.74MB 热度 55次 IC Mask Design Essential Layout Techniques 中文版:北京:清华大学出版社,2006 译名: 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Saint Christopher)，塞因特(Saint Judy)著 周润德，金申美译 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 码姐姐匿名网友 2019-01-02 08:35:17 介绍是中文版,却是英文版... 码姐姐匿名网友 2019-01-02 08:35:17 模拟IC设计入门的好书 发表评论 sinat_80641470 资源：3 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
介绍是中文版,却是英文版...
模拟IC设计入门的好书