半導體名詞解懌 半导体基础知识

ADI顯影後檢查 After Developing Inspection之縮寫 目的：檢查黃光室製程;光阻覆蓋®對準®曝光弓顯影。發現缺點後，如覆蓋不良、顯影不良‥‥等即予修改(Rework)﹒以維產品良率、品質。 方法：利用目檢、顯微鏡為之。 AEI蝕刻後檢查 1. AEI 即After Etching Inspection，在蝕刻製程光阻去除、前反光阻去除後，分別對產品實施主檢或抽樣檢查。 2. AEI之目的有四： 2-1提高產品良率，避免不良品外流。 2-2達到品質的一致性和製程之重複性。 2-3顯示製程能力之指標。 2-4防止異常擴大，節省成本 3. 通常AEI檢