N3 掺杂对SiO2:Ce纳米材料发光性能的影响 上传者：happylake54738 2020-07-19 12:32:43上传 PDF文件 233.23KB 热度 17次 N3-掺杂对SiO2：Ce纳米材料发光性能的影响，徐光青，郑治祥，分别采用化学掺杂和气氛控制方法对溶胶-凝胶法制备的SiO2：Ce纳米发光材料进行阴离子（N）掺杂，并采用透射电镜（TEM）、X射线光电子 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 happylake54738 资源：411 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
