寻求适合深层虚拟介子生产的装配程序 次要订单案例

基于共线性分解方法，我们提出了对深虚拟介子生成（DVMP）的全面扰动从前到后（NLO）分析。 我们在共形Mellin空间中的表示可作为全局拟合过程的基础，该过程可从DVMP和深虚拟康普顿散射（DVCS）的实验测量中访问广义的parton分布。 我们引入了一种相当笼统的形式主义来评估共形矩，它可以在考虑的顺序之外进一步发展。 我们还证实了以前在纯单重态夸克通道中的图解发现。 最后，我们使用硬散射振幅的解析属性来定性估计辐射校正的大小，并通过一些数值示例说明这些考虑因素。 结果表明，包括DVMP和DVCS数据在内的全球NLO GPD拟合可能比通常担心的要稳定。