Effect of the growth temperature on the surface characterization of β FeSi2 film 上传者：a81891 2020-07-18 01:23:38上传 PDF文件 1.16MB 热度 52次 温度对脉冲激光沉积法制备β-FeSi2薄膜性能的影响，姜守振，许士才，采用脉冲激光沉积（PLD）法在硅（100）面上成功制备β-FeSi2薄膜。利用XRD、FTIR、SEM等对薄膜进行表征。结果表明，晶体结晶质量随着温度 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
