Modulation of strain in SiNx capped germanium and germanium on insulator stripes 上传者：selectDele 2020-07-17 09:21:47上传 PDF文件 561.35KB 热度 11次 改变条纹宽度及NH3/SiH4流量比调节氮化硅覆盖的体锗及绝缘层上锗条纹中应变，林光杨，蓝小凌，本文通过改变条纹宽度及氮化硅生长过程中的NH3/SiH4流量比改变了氮化硅覆盖的体锗及绝缘层上锗条纹中的应变。研究发现，对于体锗条� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 selectDele 资源：409 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
