1. 首页
  2. 移动开发
  3. 其他
  4. 用于束控制的弯曲硅晶体中400 GeV / c质子的非弹性核相互作用的研究

用于束控制的弯曲硅晶体中400 GeV / c质子的非弹性核相互作用的研究

上传者: 2020-07-16 17:15:50上传 PDF文件 768.9KB 热度 22次
研究了400 GeV / c质子与弯曲硅晶体相互作用的非弹性核相互作用概率,特别是对于安装在CERN大型强子对撞机上用于光束准直的两种晶体。 与无定形散射相互作用相比,在平面通道中,准马赛克类型(平面(111))的概率为$$ \ sim 36 \%$$〜36%,而$$ \ sim 27 \%$$〜27 带状类型(平面(110))的%。 此外,首次估计了沿通道l110 r 110 r轴的轴向非绝对核相互作用概率,得出的数值为0.60.6 \%0.6%。 沿光束方向长2 mm的晶体,弯曲角度为55 $$ \ upmu•rad。 相对于同一晶体的平面沟道取向,该值低两倍以上,并且随着垂直角未对准而增
用户评论