在QCD的NLO的标准模型有效场理论中探索顶夸克中性偶合

在LHC上与Z玻色子或光子相关的顶夸克对的产生直接探测中性顶夸克偶合。 我们在标准模型（SM）的有效场论（EFT）中以QCD中的次要顺序（NLO）给出了这两个过程的预测。 我们包括完整的CP-偶数-六维运算符，它们与SM规范玻色子进入顶夸克相互作用。 为了进行比较，我们还提出了SMEFT中LHC顶部回路诱发的HZ产量和QCD NLO的ILC处的t t $$ t \ overline {t} $$产量的预测。 获得了总横截面和微分分布的结果，并讨论了在强耦合和EFT扩展中由于缺少更高阶而带来的不确定性。 可提供与parton花洒匹配的NLO结果，可将事件生成直接用于实验分析。 我们的框架为SME