Microstructure and Luminous Properties of Silicon Quantum Dots Embedded in Siric
磁控共溅射法沉积的氮化硅基硅量子点薄膜的微结构和发光特性,陈小波,杨培志,采用双极脉冲和射频磁控共溅射法在400℃下硅和石英基片上沉积了富硅氮化硅薄膜。然后采用快速光热退火炉在氮气氛中于1050℃退火。�
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