N2分压对ZrGeN阻挡层微结构及性能影响 上传者：wl33190 2020-07-16 10:26:04上传 PDF文件 991.22KB 热度 32次 N2分压对ZrGeN阻挡层微结构及性能影响，张彦坡，刘波，本文采用射频磁控溅射技术制备ZrGeN薄膜，研究N2/(Ar+N2)比率与ZrGeN薄膜微结构、成分与性能的相关性。采用高分辨透射电镜(HRTEM)、俄歇电 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
