Influence of Fluoridedoped Tin Oxide Interlayer on NiSbSnO2/Ti Electrodes 上传者：njimjy 2020-05-27 18:09:52上传 PDF文件 777.03KB 热度 11次 FTO中间层对镍锑共掺杂二氧化锡电极性能的影响研究，李国，王云海，以氟掺杂氧化锡（FTO）作为中间层制备了镍锑共掺杂二氧化锡(NATO)涂覆钛基底电极，研究了中间层对电极结构、性质以及寿命的影响。用 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 njimjy 资源：465 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
