NLO衰减过程中红外散度的处理技术及其在上夸克衰减中的应用

我们提出了两种通用算法的扩展，用于处理在电弱校正中产生的红外奇异点，从而以次领先的顺序衰减过程：偶极减法形式化和单截止切片法。前者扩展到衰减运动学的情况，到目前为止在文献中尚未考虑。后者被推广到具有两个以上带电粒子的产生和衰变过程，从而产生新的“表面”项。考虑了块状和无块状外部粒子的任意图案，包括在尺寸或质量正则化中处理红外奇异点。作为这两种技术的应用，我们介绍了对次夸克QCD的计算以及对上夸克衰变宽度的电弱校正，包括中间W玻色子的所有脱壳和衰变效应。例如，结果代表了未来对离壳顶夸克对（W+W-bb′）生产的NLO电弱效应进行计算的基础。此外，此计算可作为朝着领先先导精度的顶夸