论文研究 aSiNx:H阻变存储器掺氧实现超低功耗 .pdf 上传者：weixin_39882200 2020-04-01 03:53:02上传 PDF文件 1.77MB 热度 23次 a-SiNx:H阻变存储器掺氧实现超低功耗，张辉，谭定文，在等离子体增强化学气相淀积（PECVD）系统引入笑气（N2O）原位淀积制备出a-SiN0.69O0.53:H阻变薄膜，与没有掺氧的a-SiN0.62:H阻变存储器相比� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 weixin_39882200 资源：31108 粉丝：3 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
