论文研究Performance Improvement of Oxide ThinFilm Transistors by a TwoStepAnnealing 上传者：u735696828 2020-01-14 00:35:01上传 PDF文件 354.68KB 热度 23次 两步退火方法对氧化物薄膜晶体管性能的改善作用，李民，兰林锋，本文使用两步退火的方法制备了基于氧化铟锌半导体的薄膜晶体管。与普通的只有单步退火方法制备的相比，这种薄膜晶体管具有更好的 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 u735696828 资源：19496 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
