论文研究闪光退火在28纳米工艺中的整合 .pdf 上传者：宛陵秋 2019-09-23 18:14:51上传 PDF文件 1.14MB 热度 36次 闪光退火在28纳米工艺中的整合，邱裕明，黄其煜，闪光退火具有修复能力好，退火时间选择范围广等优点被应用于28纳米及以下集成电路制造工艺中。然而，在退火过程中，由于存在正面� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
