光刻技术概述中科大内部课程内容详尽 上传者：s85307 2019-09-14 16:32:21上传 PDF文件 7.52MB 热度 33次 主要内容：本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。•授课目标：掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨•授课对象：微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 s85307 资源：4 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
