论文研究基于DRIE工艺的静电梳齿稳定性分析 .pdf
基于DRIE工艺的静电梳齿稳定性分析，徐国栋，张宏群，实际体硅DRIE工艺刻蚀的梳齿结构存在微小的角度偏移，导致了基于理想刻蚀结构的静电梳齿稳定性分析存在很大误差。本文分别建立了��
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