论文研究Control technology of pore dimension in the photoelectrochemical etching for
高长径比宏孔硅阵列光电化学腐蚀中孔径控制技术，王国政，王蓟，高长径比宏孔硅阵列（MSA）在光子晶体、硅微通道板、MEMS器件等领域应用前景广阔，引起人们广泛关注。为制备理想的MSA结构，本文开�
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