偶氮染料掺杂高分子薄膜的光学常数

在单晶硅片上,以旋涂(Spin-Coating)法制备了推-拉型偶氮染料掺杂高分子(PMMA)薄膜,其中二甲基胺基[N(CH3)2]作为推电子基团,羧基(COOH)作为拉电子基团。利用椭圆偏振光谱和吸收光谱,研究了薄膜的复折射率、复介电函数和吸收系数,分析了影响薄膜电子光谱的因素。结果表明,该薄膜在400~600 nm波长范围内,存在强而宽的吸收,并发现染料分子的聚集状态对其吸收光谱有较大的影响。